紐約時裝學(xué)院現(xiàn)在申請還來得及，早申10月1日；常規(guī)1月1日。紐約時裝學(xué)院是國際著名的服裝與藝術(shù)設(shè)計院校，成立于1944年，是一所公立學(xué)校， 但是長年來與私有企業(yè)保持著良好的合作關(guān)系。當(dāng)時的學(xué)生只有100人左右，開設(shè)的相關(guān)學(xué)科只有科學(xué)管理和設(shè)計。FIT的創(chuàng)始人莫蒂默希望學(xué)院成為“一座像MIT麻省理工學(xué)院一樣的設(shè)計學(xué)院”。
紐約時裝學(xué)院是美國一所專業(yè)時尚類藝術(shù)學(xué)院，其為紐約州立大學(xué)下屬的公立院校，地處紐約曼哈頓黃金位置，是紐約城內(nèi)少數(shù)幾個擁有獨立校園的大學(xué)之一。學(xué)院 在美國時尚領(lǐng)域具有極高的知名度和影響力，紐約州的時尚人才大多畢業(yè)于此。
紐約時裝學(xué)院申請
1、語言成績：
雅思 6.5；托福 80；PTE 53；有的專業(yè)要求GRE。
2、申請材料：
需要在網(wǎng)上提交成績單、語言成績、作品集、個人簡歷、意向陳述和兩封推薦信(一封關(guān)于學(xué)術(shù)，一封關(guān)于職業(yè))，可能有面試。
3、作品集要求：
1)插畫設(shè)計：
提交15-20個作品。必須包含寫生素描。圖片格式為LOW-RES(72像素)。不符合要求的作品集不會被列入考慮。不接受幻燈片、原創(chuàng)作品或網(wǎng)站鏈接。
2)展覽設(shè)計：
20個設(shè)計作品，包括：AutoCad或Vectorworks草圖；Illustrator、InDesign和Photoshop熟練運用；3D作品。提交手工創(chuàng)作和其他軟件作品有加分。攝影、繪畫、雕塑或其他媒介作品也可放入作品集。
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